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來源：內容編譯自tomshardware，謝謝。
ASML 是全球無可爭議的先進晶片製造裝置設計和供應商。臺積電、英特爾和三星等行業巨頭製造最先進的半導體時，高度依賴這家 1984 年成立的荷蘭公司的裝置。然而，與科技界許多家喻戶曉的品牌一樣，ASML 的起源相當低調。就 ASML 而言，公司傳說這一切都始於一個“漏水的棚子”。
當今光刻機領域的霸主 ASML（先進半導體材料光刻技術公司）最初是由電子行業家喻戶曉的飛利浦公司和先進半導體材料國際公司（ASMI）合作成立的。雙方的願景是成立一家專注於光刻系統的新公司，而這兩家公司都認為這是一個不斷增長的市場。
ASML 的第一個基地就是前面提到的漏水棚，這可不只是個幽默的名字；它真的漏水了。這座建築位於埃因霍溫的 Strijp-T 前飛利浦園區。從這棟搖搖欲墜的單層預製建築的照片可以看出，它與飛利浦 TQ 大樓的一樓相連，後者是該公司“工業電子”部門的所在地。
在 20 世紀 70 年代初開始的研發基礎上，ASML 團隊很快實現了其首款系統 PAS 2000 步進機。根據該公司的帖子，漏水棚這一側可見的集裝箱被放在那裡“是為了讓每個人都保持理智”。顯然，PAS 2000 的液壓油泵噪音太大，因此團隊受到啟發，以這種方式將它們外部化。
值得慶幸的是，ASML 和所有來自漏水棚的員工們，不久之後，業務就蓬勃發展起來，並於 1985 年遷至專門建造的辦公室和工廠。一年後，改進後的 PAS 2500 上市，併成為許多未來機器的基礎。巧合的是，ASML 與鏡頭製造商卡爾蔡司的合作關係在此時簽署，並持續至今。
20 世紀 90 年代，ASML 宣佈推出其“突破性平臺”，即 PAS 5500。憑藉這一成功，ASML 在阿姆斯特丹和紐約證券交易所成功上市，這歸功於經典光刻系統的“行業領先的生產力和解析度”。
首批採用革命性雙臺技術的 Twinscan 機器於 2001 年推出。2010 年，該系列光刻機又邁上了一個臺階，推出了採用EUV 技術的 Twinscan NXE:3100 。如今，ASML 憑藉其 EXE 平臺和high NA 技術再次突破了競爭對手無法企及的界限。
ASML 最新的年度報告顯示，其營收接近 310 億美元，業務遍及 60 多個地區，員工超過 44,000 名。
ASML 絕不是唯一一家擁有如此卑微起源的公司，但我們不認為傳說中的美國車庫創業公司蘋果、惠普或谷歌公司會遭受屋頂漏水的困擾。潮溼和電子產品通常不是理想的組合。
參考連結
https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/asml-recalls-its-humble-origins-in-a-leaky-shed-in-eindhoven-circa-1984-it-now-makes-the-most-cutting-edge-chipmaking-tools-on-the-planet
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