2019年初，美國開始有意禁止中國企業。若只是如此，似乎影響也不會太大。畢竟，雖然美國掌握了很多半導體技術，但在半導體晶片領域，誰才是真正擁有話語權的人。主要是臺灣、韓國和日本。臺灣就不用多說了，臺灣的臺積電和聯發科是龍頭代工，一個是可以和高通抗衡的晶片設計巨頭。
韓國有三星電子，擁有全流程晶片設計和製造能力。至於日本，日本曾經是半導體行業當之無愧的龍頭老大。更受歡迎，但隨著美國的打壓，日本的半導體業務下滑，錯過了最好的發展時機。
但即便如此瘦弱的駱駝比馬大，日本在半導體晶片領域依然擁有話語權。以半導體光刻膠為例，日本壟斷了全球87%的市場份額。在光刻機中，尼康和佳能的DUV光刻機也佔有一定的市場份額。
不過，由於美國的要求，日韓兩國都開始在半導體供應鏈上對中國企業進行限制，而日本的限制主要涉及光刻膠。眾所周知，晶片製造工藝的核心就是光刻機，但是沒有光刻膠，再先進的光刻機也沒用，光刻膠就相當於相機的平臺，透過光刻機在晶圓上成像，然後傳送到刻蝕機進行刻蝕在電路晶片中。
因此，日本禁止光刻膠出口對我國的影響還是很大的，不過就在5月19日，據媒體訊息，中國又完成了光刻膠領域的新專案。南大光電取得突破，成功開發出可用於90nm至28nm晶片生產的DUVArF光刻膠，該產品可滿足進口產品的替代要求。
這個訊息一齣，估計日本是真的慌了，因為這意味著以後就算解除禁運，我國也不會再從日本購買光刻膠了，而且我國是全球第一大消費國。市場將對日本造成致命打擊。
雖然目前的突破只是從90nm到28nm，但是對我國來說是整個晶片製造產業鏈的閉環突破，因為我國攻克的是28nm，而國產光刻機距離28nm只有一步之遙，所以28nm是我們國家偉大的現實。
對於更高精度的光刻膠，我們可以慢慢來。畢竟，我們需要的是匹配國內整個晶片產業鏈的發展步伐。同樣，伴隨著我國在光刻膠領域的成功，估計拜登也愣住了。畢竟才幾年，限制也才幾年而已。我國即將打通半導體制造全產業鏈。
面對我國在晶片領域的又一次成功，外媒也評論稱，要搶佔的是美國的技術制高點，而這一切還要等EUV光刻機的成功
其實就目前而言，我國在EUV光刻機的核心零部件上已經完成了突破，諸如EUV光源，現如今無論是清華大學、哈工大還是長春光機都有了自己的解決方案，雙工作臺方面也有了選擇方向，但是在物鏡方面卻是比較困難的，畢竟所需要的物鏡的品質現階段似乎還要依賴蔡司這樣的老牌巨頭。
不過，萬事開頭難，沒有什麼東西是一蹴而就的，我們的突破速度已經很快了，接下來只需要去迎接EUV光刻機的問世就可以了，而在EUV光刻機發展的同時，周遭晶片產業鏈的相關技術的突破同樣重要，因為只有產業鏈同步突破，屆時我們才可以真正盤活整個國產高階晶片產業鏈。
而這一天相信不會太遠。