來源：製造界 作者：秀二
1/中微公司,起訴美國國防部
2024 年 8 月 16 日，國產半導體裝置大廠、刻蝕裝置龍頭企業中微公司宣佈，已向美國法院正式提交訴狀，起訴美國國防部將其列入中國軍事企業清單的決定。
2024 年 1 月 31 日（美國東部時間），美國國防部根據《2021 財年國防授權法案》第 1260H 條，將中微公司列入 CMC 清單。此前在 2021 年 1 月 14 日，美國國防部也曾將中微公司列入涉軍企業的 CMC 清單，不過在其提出申訴並提供充分證據後，於同年 6 月 3 日成功被移除。而此次美2024 年 國國防部再次將中微公司列入 CMC 清單。直接原因是，中微公司曾在 2019 年獲得了由中國工信部參與頒發的刻蝕機系列產品 “製造業單項冠軍產品獎”。
中微公司認為，該獎項只是一項榮譽，並非能夠證明企業涉軍。美國國防部做法是錯誤且毫無根據的。自被列入CMC 清單以來，中微公司積極地同美國國防部進行溝通、澄清事實，提供了充分的證據證明其不符合CMC 清單的認定標準，並要求將其從清單中移除。然而，截至正式起訴之日，中微公司仍被列入該清單。
中微公司董事長兼總經理尹志堯稱：“我們對美國國防部將中微公司再次列入涉軍清單深表震驚。我們相信法院會作出一個公正的裁決，將中微公司從 CMC 清單中移除。同時，我們也願意繼續與美國國防部保持溝通，友好妥善地解決所存在的爭議。”
2/加州參議員，警告拜登
在半導體領域，臺積電亞利桑那州第二工廠的投產時間由原定的2026年推遲至2027到2028年。英特爾也推遲了作為補貼物件的俄亥俄州新工廠專案。半導體相關計劃也因技術人員等人才的短缺而停滯不前。
在此背景下，拜登政府推動的供應體系與中國的“脫鉤斷鏈”計劃可能也面臨困難。分析人士認為，《晶片與科學法》和《通脹削減法案》提供的支援不足以支撐美國與中國“斷鏈”。
據路透社 8 月 14 日報道，加州參議員亞歷克斯・帕迪拉（Alex Padilla）和眾議員佐伊・洛夫格倫（Zoe Lofgren）聯合致信拜登內閣的商務部，信中表示：“我們要求你們暫停額外的單邊出口管制，直到有充分的理由證明這些管制不會損害美國在先進半導體和半導體制造裝置方面的競爭力。”
美國商務部對議員的這一行為頗為震驚，因為這是總統的政策決定，卻遭到了議員的質疑。不過商務部表示，已按照流程通知了 拜登，等待他的答覆。
報道稱，此前拜登政府計劃進一步收緊對華晶片出口限制，預計將於 8 月頒佈新規定，批准美國對其他國家進行 “額外管制計劃”，屆時中國的晶片如果被其他國家進口，很可能失去和美國做生意的機會。而議員們此次挑戰該法案，並非是為了中國考慮，而是在嘗試維護自身利益，管制政策損害了不少美國企業的利益，企業向議員施壓，且議員的選票和企業掛鉤。此外也有評論認為，議員們警告拜登，打壓中國的同時不能損害關聯方的利益。
3/再說一下，尹志堯
刻蝕機與光刻機並稱為晶片製造的兩大核心裝置。中微公司在刻蝕機領域取得了顯著成就，其產品已應用於全球先進的生產線。
尹志堯在半導體行業前沿領域是學術精英、技術專家、領軍人物。其個人在半導體行業擁有86 項美國專利和 200 多項各國專利，被譽為 “矽谷最有成就的華人之一”。全世界超過一半的刻蝕裝置都有他參與領導和開發的身影。
2024 年 3 月 19 日，中微公司董事長、總經理尹志堯在 2023 年度業績說明會上表示，中微公司絕大部分刻蝕裝置的零部件已實現國產化，並且在很短的時間內將全面實現自主可控。預計在 2024 年三季度末實現 100% 的自主可控。
尹志堯堪稱中國半導體領域的泰斗，他的一些觀點和言論對於瞭解光刻機及中國晶片行業的發展具有重要參考價值。尹志堯在近期接受採訪時稱，基本上在今年夏天左右，中國晶片將實現全產業鏈的完全自主可控，這也意味著包括光刻機等半導體裝置以及光刻膠等半導體材料，我國都已經可以自主化。
他還提到在半導體裝置方面，目前暫時沒有看到什麼發展瓶頸，接下來中國芯在光刻機等領域的技術水平還會有不小的提升和發展。此前也有一些國內的研究院、高校透露出了關於國產EUV 光刻機核心零部件技術突破的相關訊息。尹志堯認為，國產光刻機在離子注入和電子束領域仍存在短板，有待補齊。
尹志堯，1944 年出生於北京。1967 年，尹志堯畢業於中國科技大學化學物理系，之後在石油化工部和中科院工作，負責催化劑產品的研究。1978 年，他考入北京大學化學系，並於 1980 年獲碩士學位。同年，他前往加利福尼亞大學洛杉磯分校留學，僅用三年半時間就獲得物理化學博士學位。
1984 年獲博士後，尹志堯進入 英特爾 研發中心應用開發部，參與關鍵半導體裝置的研發。1986 年，他加入 Lam 公司，主導研發了彩虹號 氧化物 刻蝕機。1991 年，他加入應用材料公司的等離子刻蝕事業群。2000 年，他成為該事業群總經理，負責 16 億美元的生意。在矽谷工作的二十年裡，他參與並領導了國際幾代等離子體刻蝕機的研發，成為微觀裝置領域的 “最強大腦” 之一。
儘管在國外有著優越的生活和輝煌的成就，但尹志堯心中的愛國情懷始終熾熱。2004 年，已經 60 歲的他，在時任上海市經委主任江上舟的邀請下，毅然回國創業。面對 江上舟“我們能不能自己把刻蝕機造出來” 的詢問，以及 “哪怕豁出命去，也要為國家造出刻蝕機” 的決心，他帶著15 人專業團隊回到上海，創辦了中微半導體裝置公司並擔任董事長兼總裁，主攻薄膜製造裝置與等離子體刻蝕裝置。
中微開發出的生產 7nm 到 5 奈米器件的裝置，已與世界最前沿技術比肩。中微的等離子體刻蝕裝置應用於國際先進的 14 奈米、7 奈米和 5 奈米生產線，短時間內就讓我國突破了國際刻蝕機的技術壟斷。
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