一種新型光刻技術，突破EUV極限

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來源：內容編譯自eenewseurope，謝謝。

據報道，初創公司Lace Lithography AS（挪威卑爾根）正在開發一種光刻技術，該技術使用向表面發射的原子來定義特徵，其解析度超出了極紫外光刻技術的極限。

Lace Litho 所稱的 BEUV 理論上可以實現更精細的特徵，支援電晶體的持續小型化並延伸摩爾定律。

該公司由卑爾根大學執行長 Bodil Holst 教授和首席技術官 Adria Salvador Palau 於 2023 年 7 月共同創立，後者在卑爾根大學獲得博士學位，但目前在西班牙巴塞羅那運營。

傳統的 EUV 系統使用 13.5nm 波長的光，透過一系列反射鏡和掩模在晶圓上形成圖案。原子光刻技術能夠實現直接無掩模圖案化，其解析度甚至小於受波長限制的 EUV 系統所能達到的解析度。

該公司在其網站上聲稱：“透過使用原子代替光，我們為晶片製造商提供了領先當前技術 15 年的功能，而且成本更低、能耗更低。”

Salvador Palau 和 Holst 教授共同撰寫了一篇發表在《物理評論 A》上的論文，題為《利用中性氦原子進行真實尺寸表面對映》。該論文詳細介紹了立體氦顯微鏡的實現和操作。

FabouLACE 是一個由歐盟資助的專案，旨在開發基於色散力掩模的氦原子光刻技術，其預算為 250 萬歐元，由歐洲創新委員會提供。該專案啟動日期為 2023 年 12 月 1 日，將持續到 2026 年 11 月 30 日。

FabouLACE 採用亞穩態原子和基於色散力的掩模，可實現 2 奈米工藝。歐盟委員會表示，Lace 光刻技術已獲授權在 2031 年前將該技術推向市場。與此同時，該技術的效能將由 IMEC 研究機構進行監測和驗證。NanoLACE 是歐洲早期的一個研究專案，於 2024 年 12 月 31 日結束。該專案於 2019 年啟動，已獲得 336 萬歐元的資助，其預算為 365 萬歐元。

Lace Lithography 於 2023 年 7 月籌集了約 450,000 歐元的種子輪融資，由 Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、歐洲創新委員會、挪威創新局和挪威研究委員會提供支援。

參考連結

https://www.eenewseurope.com/en/lace-lithography-uses-atoms-to-go-beyond-euvl/

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