防走失，電梯直達
安全島報人劉亞東A來源：騰訊新聞
作者：前臺積電建廠專家 Leslie Wu
你可能不知道，問世超過20年的DUV光刻機，還在發光發熱。
使用浸潤式DUV光刻機+多重曝光技術生產5nm晶片完全可行，不計代價的情況下甚至能做到3nm。
儘管理論上可行，且在7nm節點上已被部分晶圓廠驗證過，但這需要諸多條件同時滿足，比如多重曝光中關鍵的“套刻精度”——多次曝光之間圖形對準的精度。
此外，也還涉及到許許多多的製程手段，比如相移光罩、模型光學臨近效應修正、過蝕刻、反演光刻等，甚至基於最新的定向自組裝光刻技術，在不依賴更高解析度光刻的情況下，也有生產5nm晶片的可能。